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重慶GMP純化水設備解讀:半導體工業(yè)廢水的處置方法都有哪些

【重慶水處理設備網(wǎng)http://xqccscq.com/】隨著我國經(jīng)濟的高速發(fā)展,半導體行業(yè)的發(fā)展也在迅速崛起,因此在半導體工業(yè)加工的過程中不可避免的會發(fā)生含有氟離子,銅離子,磷廢水的污染物廢水,下面就來列舉一些半導體工業(yè)廢水的處置方法都有哪些?

半導體工業(yè)的污水應該怎么處置?

方法/方法

含氟離子廢水處置:

將廢水的pH值調(diào)整在6-7左右,再加入的過量的CaCl2和適量的絮凝劑,后續(xù)會行形成沉淀,局部污泥循環(huán)成為載體,沉淀池中通過重力沉降能夠實現(xiàn)泥水分離。

第一次反應時能夠去除80%氟,純水設備再一次加入絮凝劑,氟化鈣及其其他形態(tài)沉淀,利用污泥泵輸送到污泥沉淀池,用板框式脫水機壓成泥餅外運,這時候發(fā)生的壓濾液進入其他系統(tǒng)進一步處置。

含磷離子廢水處置:

含磷廢水中磷主要以PO43-為主,采用的方法為化學沉淀法和混凝劑沉降法的組合工藝,通過加入CaCl2生成難溶于水的Ca5PO43OH沉淀。 重慶GMP純化水設備

一級反應池的pH調(diào)整到5-6左右,二級反應池pH調(diào)整到8.5-9三級反應池pH調(diào)整到9-9.5確保完全生成羥基磷酸鈣)純水設備此工藝流程比擬簡單,費用也比較低,對于含磷廢水處置有很大的適用性。

與研磨廢水進行混合:

將半導體器件制造中產(chǎn)生的電鍍廢水和研磨廢水進行混合,混合廢水泵入浸沒式膜過濾裝置過濾,過濾的水泵入納濾膜過濾裝置過濾,經(jīng)過納濾膜過濾裝置過濾的水即可直接回用。

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